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12月2日，由合肥芯碁微電子裝備有限公司自主研發(fā)的雙臺面激光直接成像設備亮相深圳國際會展中心，打破了國外高端激光直寫曝光設備的壟斷，填補了國內高端集成電路裝備產業(yè)空白，為國家信息產業(yè)和國防安全提供了設備保障。
激光直寫光刻設備可以大幅縮短從版圖設計到芯片加工的周期，市場前景廣闊。目前，激光直寫曝光設備高端裝備一直依賴進口，成為制約我國集成電路和高端線路板產業(yè)發(fā)展的瓶頸。合肥芯碁微電子裝備有限公司在短時間內研發(fā)出雙臺面激光直接成像設備，為全國首創(chuàng)，生產效率提高了1.8倍，設備的線寬分辨率、對位精度、產能三大核心指標均處于國際先進水平。目前，合肥芯碁已申報了35項專利，取得了溫州、臺灣等地科研單位和高校的訂單，另有多家單位已提出訂購意向。
